薄膜沉積系統
 

Nanochrome TM II 采用了垂直“翻蓋式”箱體設計，這使得試驗箱的所有部件都很方便操作。水冷卻/加熱的痕跡（traces）加快抽水次數。在操作的同時，您可用潛望鏡裝置清晰地觀察物理氣相沉積的來源。試驗箱有幾個光學路徑，可以觀察薄膜增厚的過程，能確保實時測量以及控制光學涂層。
多重處理器選項
硬涂層 用于金屬或離子輔助介質，金屬的磁控濺射，或通過DC或AC反應濺射脈沖射頻，電子束蒸發的，離子協助輕松配置到系統中。
低溫運行： 潛在的熱核聚變會限制沉積，許多薄膜冷卻選項可以幫您增加沉積速率。在沉積薄膜時，使用Intlvac離子束基板臺直接冷卻基板。 隨著冷卻液直接在基板下循環，單或雙軸自轉運轉。 高溫選件 紅外加熱元件，石英燈陣列和氧氣耐加熱元件可供選擇，以實現高達800°C溫度。
用于輔助、反應性運行和預洗滌的離子源
Intlvac為NCII提供種類繁多的離子源。高光束電流和低能量非常適合薄膜致密，清潔，或輔助大的區域。我們提供的新一代的光源是您涂層的理想選擇。終端通道柵格源，與高達10安培的離子電流量，在能量低于300eV 時組成柵格。 提供高達一安培RF源和100-1000eV可選擇離子能。

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